INCONEL alloy 686 丝网的标准、别名、牌号、规格、型号、材质、种类、特性、用途
INCONEL alloy 686 丝网的标准、别名、牌号、规格、型号、材质、种类、特性、用途
以下是关于 INCONEL Alloy 686 丝网 的全面技术整理。该合金为 镍铬钼钨超耐蚀合金，以 极端环境耐腐蚀性 和 抗点蚀/缝隙腐蚀能力 为核心优势，专为化工、环保及湿法冶金等领域的强酸、混合酸介质过滤与防护设计。
1. 标准
国际标准：
ASTM：
ASTM B622（镍基合金无缝管标准，适用丝网轧制原料）。
ASTM B619（焊接镍基合金管规范，参考线材加工工艺）。
AMS：AMS 5911（航空用耐蚀合金焊丝规范，间接参考）。
EN：EN 10204-3.1（对应牌号 NiCr21Mo14W）。
国内标准：
GB/T 15007：对应牌号 NS3406（旧牌号 GH686）。
2. 别名与牌号
通用名称：超耐蚀镍基丝网、INCONEL 686混酸过滤介质。
商业牌号：
INCONEL 686®（Special Metals Corporation 注册商标）。
统一编号：
UNS：N06686。
W.Nr.：2.4606（德国材料编号）。
3. 规格与型号
丝网规格参数：
目数范围：20~300目（化工系统常用50~150目）。
线径范围：0.1mm~6.0mm（硫酸介质推荐≥0.6mm）。
编织方式：
平纹（常规耐蚀）、斜纹（抗湍流冲刷）；
双层复合烧结网（孔隙率精度±2%）。
典型型号示例：
N06686-100目平纹网（钛白粉生产废酸过滤层）。
ASTM B622-2.4mm烧结网（湿法冶金浸出液固液分离筛）。
4. 材质成分（wt%）
|
元素 |
Ni |
Cr |
Mo |
W |
Fe |
Mn |
C |
|
范围 |
余量 |
19.0~23.0 |
15.0~17.0 |
3.0~4.0 |
≤5.0 |
≤1.0 |
≤0.01 |
强化机制：
固溶强化：高Mo（提升耐还原性酸能力）+ W（增强抗点蚀临界温度）。
钝化膜特性：富Cr-Mo氧化膜（抗硫酸浓度可达98%）。
5. 种类
按加工状态：
固溶退火态（1120℃水冷）：HRC≤22，延伸率≥45%。
冷轧硬化态：抗拉强度≥1100 MPa（需避免应力腐蚀开裂）。
按功能设计：
酸洗工装支撑网：不锈钢酸洗线防塌卷隔离层（耐H₂SO₄+HCl）。
离子膜电解过滤网：氯碱工业盐水精滤（抗Cl⁻+NaOH复合腐蚀）。
6. 特性
核心性能：
耐腐蚀性：
抗沸腾硫酸（浓度≤70%）、盐酸（浓度≤20%）；
耐磷酸（H₃PO₄≤85%）、氢氟酸（HF≤10%）；
临界点蚀温度（CPT）≥95℃（ASTM G48方法）。
机械性能：
室温抗拉强度≥760 MPa，硬度HRB 85~100；
抗应力腐蚀（沸腾42% MgCl₂溶液）：通过720h测试。
高温性能：
抗氧化极限 600℃（超过此温度氧化速率显著升高）。
局限性：
成本约为INCONEL 625的2.5倍；
焊接需严格工艺控制（热裂纹敏感系数＞15%）。
7. 用途
化工与环保：
硫酸法钛白粉生产线酸解罐过滤（耐H₂SO₄+TiO₂浆料冲刷）；
垃圾渗滤液蒸发器防结垢滤网（抗NH₃+有机酸复合腐蚀）。
湿法冶金：
钴镍湿法萃取工艺浸出液过滤（耐H₂SO₄+Cl⁻体系）；
锌电积阳极泥拦截网（抗H₂SO₄+Mn²⁺+F⁻复杂介质）。
半导体制造：
芯片蚀刻废酸回收系统（耐HF+HNO₃混合酸）；
光伏多晶硅清洗槽防护网（抗NaOH+异丙醇溶液）。
补充说明
与同类合金对比：
vs. HASTELLOY C276：
686：Mo含量更高（15-17% vs. 15-17% C276相近），但添加钨（W）显著提升耐点蚀能力；
C276：成本低15%~20%，但耐盐酸浓度上限低5%（686可达20%）。
vs. INCONEL 625：
686：耐混酸（尤其是含Cl⁻的硫酸体系）优势明显；
625：更适合海洋环境（抗海水腐蚀更经济）。
选型建议：
强氧化性酸（如硝酸）：优先选择TA2钛网；
还原性混酸（如H₂SO₄+HCl）：必须使用INCONEL 686。
加工与维护：
焊接工艺：采用ERNiCrMo-14焊丝，控制层间温度≤100℃；
酸洗钝化：推荐硝酸（40%）+氢氟酸（2%）混合酸洗；
失效判断：当丝网颜色由银白变灰黑（富Mo氧化膜剥落）需更换。
关键应用参数：
硫酸浓度＞80%：需配合蒸汽保温（保持温度＞100℃防止凝固阻塞）；
含固量＞20%浆料过滤：推荐线径≥1.2mm+斜纹编织（抗磨损寿命延长3倍）；
氢氟酸工况：避免与硅酸盐材料接触（防止生成氟硅酸加速腐蚀）。
注：在 核燃料后处理 领域，INCONEL 686丝网需通过 耐硝酸+辐照联合试验（推荐辐照剂量率≤1×10³ Gy/h）；对于 制药行业超纯介质过滤，需进行 电解抛光（EP） 确保表面粗糙度Ra≤0.4μm。
